カメラや複合機、半導体露光装置などを手がけるキヤノンは１３日、ナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）技術を応用、ウエハーを平坦化する「Ｉｎｋｊｅｔ…
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2026/01/14 07:43(水)
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ウエハー凹凸を５ｎｍ以下に抑制、２０２７年に装置製品化へキヤノン＜７７５１＞（東証プライム）は１月１３日、ナノインプリントリソグラフィ技術を応用したウエハー平坦化技術「Ｉｎｋｊｅｔ－ｂａｓｅｄＡｄａｐｔｉｖｅＰｌａｎａｒｉｚａｔｉｏｎ（ＩＡＰ）」を開発し、世界で初めて実用化したと発表した。先端半導体製造への活用を見据え、２０２７年中に同技術を用いた装置の製品化を目指す。半導体製造では、成膜や配線工程を重ねる中で生じるウエハー表面の凹凸を均一に整える平坦化工程が不可欠である。微細化や３Ｄ化が進む…
https://www.media-ir.com/news/?p=152823 この記事の続きを見る
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7751 キヤノン(株)
市場 東証PRM
業種: 電気機器
カメラ、ビデオをはじめとする映像機器、プリンタ、複写機をはじめとする事務機器、デジタルマルチメディア機器や半導体露光装置（ステッパー）などを製造。
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